金相抛光是材料分析中不可或缺的一环,其目标是通过机械或化学手段,将试样表面打磨至镜面状态,为后续显微观察提供无干扰的“舞台”。这一过程如同雕刻师打磨玉石,需从粗到细、层层递进,最终揭示材料的微观真相。以下是金相抛光的“三步曲”。
第一步:粗抛——快速塑形
粗抛是抛光的“奠基阶段”,目的是去除试样经切割、研磨后留下的深划痕和变形层。
工具选择:通常使用粒度较粗的抛光布(如TOUCHLAM 金相抛光布的2FC1型无纺布抛光布或者2TT1型塔夫绢抛光布)搭配高粒度抛光剂(如粒径3-9μm的Bio DIAMANT 金相抛光液)。
操作要点:
保持抛光机转速适中(300-600 rpm),避免因离心力过大导致抛光剂飞溅。
施加均匀压力,确保试样与抛光布充分接触,但避免过度按压导致边缘变形。
定期检查试样表面,当划痕明显变浅时及时停止,避免过度抛光引发高温氧化。
第二步:精抛——细腻雕琢
精抛是“精细化阶段”,需消除粗抛残留的细微划痕,提升表面平整度。
工具升级:换用更细的抛光布(如TOUCHLAM 金相抛光布的3SE2型短绒抛光布)和微米级抛光剂(如粒径1-3μm的Bio DIAMANT 金相抛光液)。
操作技巧:
降低压力并延长抛光时间(通常为粗抛的2-3倍),让抛光剂充分渗透划痕底部。
采用“交叉抛光法”:每隔1-2分钟旋转试样90°,避免单向划痕残留。
清洁试样后观察表面反光,若出现均匀的“镜面效应”,则可进入终抛阶段。
第三步:终抛——完美收官
终抛是“终极润色”,需彻底去除机械应力层,获得无损伤的镜面效果。
关键细节:
抛光后立即冲洗,防止抛光剂残留腐蚀表面。
用显微镜低倍率检查,确认无划痕、橘皮纹或伪像。
Q:如何判断抛光是否合格?
A:直观检查时,试样表面应呈现均匀的镜面反光;显微观察下,晶界清晰无干扰,且腐蚀后组织形态与材料特性相符。
Q:软质材料(如铝合金)抛光时总出现划痕,怎么办?
A:建议降低抛光压力至5-10 N,缩短单次抛光时间(<1分钟),并使用更软的抛光布(如TOUCHLAM 金相抛光布的4MP1型聚氨酯泡沫布)。
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